先进的焚烧技术
ICFB--内部循环流化床锅炉
燃料适应性
运行稳定性
干式真空泵：在CVD、Etcher、Ion注入等半导体前期工艺和后期工艺中使用的真空类工艺装置
废气处理装置：处理半导体制造工艺产生的有害气体
臭氧水制造装置：晶圆清洗、消除阻抗
CMP装置：平坦化处理
经济性
干式真空泵：在CVD、Etcher、Ion注入等半导体前期工艺和后期工艺中使用的真空类工艺装置
废气处理装置：处理半导体制造工艺产生的有害气体
臭氧水制造装置：晶圆清洗、消除阻抗
CMP装置：平坦化处理
信赖性・安全性
TIF--回旋流型流化床
燃料适应性:TIF炉由下列三要素构成，炉内无可动机械结构，砂可在炉内回旋运动。
TIF适合中国的理由
内部循环流动的效果
内部循环流化床的效果
干式真空泵：在CVD、Etcher、Ion注入等半导体前期工艺和后期工艺中使用的真空类工艺装置
废气处理装置：处理半导体制造工艺产生的有害气体
臭氧水制造装置：晶圆清洗、消除阻抗
CMP装置：平坦化处理
-实现焚烧炉稳定运行-
荏原HPCC型炉排炉的三大技术特点
干式真空泵：在CVD、Etcher、Ion注入等半导体前期工艺和后期工艺中使用的真空类工艺装置
废气处理装置：处理半导体制造工艺产生的有害气体
臭氧水制造装置：晶圆清洗、消除阻抗
CMP装置：平坦化处理
